你知道如何控制硬質(zhì)氧化時(shí)間嗎？不知道的話就和我們上海硬質(zhì)氧化一起去了解了解吧

陽(yáng)極氧化時(shí)間太長(zhǎng)、易造成疏松易脫落、膜層粗糙。

陽(yáng)極氧化時(shí)間太短、則膜層薄而平滑。

由此可見(jiàn)陽(yáng)極氧化時(shí)間過(guò)長(zhǎng)或過(guò)短對(duì)質(zhì)量都是不利的，操作時(shí)要嚴(yán)格控制。

硬質(zhì)陽(yáng)極氧化所需時(shí)間由兩部分組成具體說(shuō)明如下。

（1）預(yù)陽(yáng)極氧化時(shí)間（以表8－3中配方1為例）。當(dāng)制件進(jìn)入硬質(zhì)陽(yáng)極氧化槽之后當(dāng)即加以0．5A/dm2的電流，并在之后的25min時(shí)間內(nèi)分5～8次將電流密度由0．5A/dm2遞升到2．5A/dm2，這段時(shí)間不能短，否則容易引起以后成膜階段制件發(fā)生短路而引起燒蝕，時(shí)間過(guò)長(zhǎng)則沒(méi)有意義。 　　

（2）陽(yáng)極氧化成膜時(shí)間。制件經(jīng)25min預(yù)處理之后，電流密度已恒定在2．5～3A/dm2時(shí)，膜層生長(zhǎng)由此時(shí)正式開(kāi)始。這一段時(shí)間過(guò)長(zhǎng)或過(guò)短對(duì)質(zhì)量都是不利的（適宜的時(shí)間在不同的工藝規(guī)范中都提明確要求）。